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Thin Film Deposition

7 PECVD reactors:  ARCAM 100 & 200, Philix, Plasmat, Plasfil, Nextral, Venus and Atos (HDP)

ALD reactor, RF Sputtering system (3 targets), 2 thermal evaporators, etc.

Process diagnostics: 2 in-situ SE, QMS, 2 OES spectrometers,

Film analysis: X-ray diffractometer, SEM.

Modeling packages: Fluent, 2 COMSOL, Optilayer, Essential Macleod, etc.

Proprietary software: fluid, DSMC, ab initio calculations,etc.